Phổ phát xạ nguyên tử ghép cặp cảm ứng cao tần (ICP-OES)

Phổ phát xạ nguyên tử ghép cặp cảm ứng cao tần (ICP-OES) 1. Khái quát về phổ nguyên tử  Định tính và định lượng các nguyên tố dựa trên  Quang phổ  Hấp thu hay phát ra bức xạ điện từ của nguyên tử  Hấp thu hay phát ra bức xạ điện từ của ion  Khối phổ  Tỷ số khối lượng/điện tích của ion  Bản chất của quang phổ nguyên tử và ion Sự chuyển dịch điện tử hóa trị giữa các vân đạo của nguyên tử hay ion ↔ sự hấp thu và phát xạ photon. Kích hoạt (excitation): nhận năng lượng (nhiệt, photon) Phân rã (decay): giải phóng năng lượng (photon) Kích thích: a, b Ion hóa: c Ion hóa/kích thích: d Phát xạ ion: e Phát xạ nguyên tử: f, g, h Năng lượng ↔ bước sóng (tần số) ΔE = hν = hc/λ Phổ nguyên tử: 160-860nm (UV-VIS) UV-VIS phổ biến hơn phổ tia X, γ: đúng, chính xác, linh hoạt, rẻ tiền. Các phương pháp phân tích dựa trên phổ nguyên tử Hấp thu nguyên tử Nguyên tử tự do ở mức cơ bản Hấp thu bức xạ đặc trưng (Io → I) Tín hiệu phân tích: độ giảm cường độ bức xạ A = lg(Io/I) ~ Cmẫu. Quang phổ phát xạ Nguyên tử tự do mức cơ bản + năng lượng nhiệt  mức kích hoạt (nguyên tử, ion). Mức kích hoạt phân rã  photon (ΔE = hc/λ) cường độ I và  Ion mức cơ bản (phát xạ ion, vạch II, III) Nguyên tử mức cơ bản (phát xạ nguyên tử, vạch I) Tín hiệu phân tích: cường độ phát xạ I~ Cmẫu. Huỳnh quang nguyên tử Nguyên tử tự do mức cơ bản + năng lượng bức xạ (photon) đặc trưng E =hc/λ  mức kích hoạt (nguyên tử). Nguyên tử mức kích hoạt  mức cơ bản + photon E =hc/λ Khối phổ nguyên tử Nguyên tử tự do mức cơ bản + năng lượng nhiệt  ion hóa (ion + hay 2+). Tín hiệu phân tích: mass/charge  Các loại nguồn nguyên tử hóa và kích hoạt.  Ngọn lửa Lò Nhiệt độ: 3000-4000oK Nguyên tử hóa hầu hết các hợp chất Khó nguyên tử hóa: oxide, carbide nguyên tố chịu nhiệt. Ion hóa kim loại kiềm, vài kim loại kiềm thổ Phóng điện Hồ quang dc, tia điện ac. Plasma ICP Nhiệt độ: 6000-10000oK Nguyên tử hóa, ion hóa hầu hết các hợp chất  Vài ứng dụng các nguồn nguyên tử hóa và kích hoạt trong phổ phát xạ. Ngọn lửa: kim loại kiềm+vài nguyên tố dễ nguyên tử hóa Hồ quang, tia điện: các kim loại trong luyện kim, khai khoáng, địa chất... ICP: 70 nguyên tố kể cả nguyên tố chịu nhiệt 2. Các đặc tính chung của ICP-OES  Nguồn phóng điện ICP  Argon chạy qua một torch thạnh anh  Nguồn phát sóng radio (RF) + cuộn đồng quấn quanh torch.  Bộ phát electron khơi mào  RF: 27 hay 40MHz, 700-1500W  RF gây 1 dòng điện trong cuộn đồng  tạo 1 từ trường và điện trường trong torch.  Electron khơi mào gia tốc trong điện từ trường (inductive coupling)  va đập vào Ar  sinh ra nhiều electron  phản ứng dây chuyền  ion hóa Ar trong torch tạo plasma.  Cấu tạo ”ngọn lửa” plasma ICP  ”Ngọn lửa” ICP argon: xanh sáng, hình giọt nước  Vùng cảm ứng (Inductive region: IR), hình vành khuyên, màu trắng sáng do Ar phát xạ.  Vùng gia nhiệt sơ bộ (preheating zone:PHZ): desolvate hóa, hóa hơi, nguyên tử hóa mẫu  Vùng bức xạ (Initial radiation zone: IRZ): kích hoạt và ion hóa mẫu. Vùng phân tích (normal analytical zone: NAZ): kích hoạt, ion hóa. Đo tín hiệu phát xạ tại vùng này.  Các biến đổi của mẫu trong plasma ICP  Cơ chế kích hoạt và ion hóa trong ICP: chưa biết rõ  Sự kích hoạt và ion hóa chủ yếu do va chạm với các electron năng lượng cao. Sự bay hơi, nguyên tử hóa, kích hoạt và ion hóa trong ICP hiệu quả cao, ổn định (so với các nguồn nguyên tử hóa khác): nhiệt độ cao  giảm nhiễu.  Thời gian lưu của mẫu trong ICP plasma lâu (2ms)  nguyên tử hóa hoàn toàn  Mẫu (dạng sương) ở trung tâm vùng IR  không cản trở sự truyền năng lượng từ nguồn RF vào plasma  ICP ổn định, tương đối cân bằng nhiệt  Thiết bị đo tia phát xạ  Thiết bị phân giải quang phổ: bộ đơn sắc (monochromator), đa sắc (polychromator)  Thiết bị ghi nhận tia phát xạ (detector): PMT, CCD, SCD  Định tính và định lượng bằng ICP OES  Định tính  Dựa vào sự hiện diện vạch phổ đặc trưng  Phải có sự hiện diện của ít nhất 3 vạch  Chỉ tin cậy với ICP sử dụng bộ đơn sắc (monochromator) hay với detector hiện đại  Định lượng  Sử dụng đường chuẩn  2 dung dịch chuẩn và 1 mẫu rỗng  Khoảng tuyến tính: 4-6 bậc so với LOD  Sự tự hấp thu (self-absorption) chỉ quan sat thấy ở thiết bị ICP axial view.  Các đặc trưng về hiệu năng sử dụng  Giới hạn phát hiện (limit of detection: LOD)  Nồng độ thấp nhất cho phép phát hiện chất phân tích trong mẫu.  Trong ICP OES: LOD các chất trong khoảng µg/L.  Giới hạn định lượng (limit of quatitation: LOQ)  Phân tích sơ bộ (±10%): LOQ≥5*LOD. Phân tích chính xác (±2%): LOQ≥100*LOD  Khoảng tuyến tính (linear dynamic range)  4-6 bậc so với LOD  Đường chuẩn chỉ cần 2 điểm chuẩn  Hạn chế pha loãng mẫu  Độ đúng và độ chính xác (accuracy and precision)  ICP OES: đáp ứng yêu cầu độ đúng và chính xác của phân tích vết  ICP-OES thế hệ mới: đảm bảo độ đúng với mẫu phức tạp.  ± 1% khi nồng độ mẫu > 100*LOD  Kéo dài thời gian đo, sử dụng các cách hiệu chỉnh  tăng độ chính xác nhưng giảm tốc độ đo.  Độ phân giải (resolution)  Δλ/λ  Cản nhiễu quang phổ (spectral inteferences) Cản nhiễu không quang phổ (non-spectral inteferences)  Vai trò của ICP-OES trong lab phân tích  Đánh giá dựa vào các tiêu chí sau  Loại mẫu  Nguyên tố cần xác định  Độ nhạy  Tốc độ phân tích  Lượng mẫu phân tích  Số lượng mẫu  Giá thành phân tích  ....  Đặc điểm của ICP-OES so với một số phương pháp phổ nguyên tử. 3. Thiết bị quang phổ ICP-OES Tóm tắt quá trình đo phổ trên máy ICP-OES  Bơm mẫu (lỏng) vào hệ thống phun sương  Các hạt sương kích thước lớn chảy vào ống thải  Các hạt sương nhỏ: cuốn theo dòng Ar vào plasma  Mẫu được desolvate, nóng chảy, bay hơi, nguyên tử hóa, ion hóa và kích hoạt trong plasma  Mẫu ở trạng thái kích hoạt trở về trạng thái cơ bản và phát ra bức xạ đặc trưng  Bức xạ sẽ được hướng vào bộ tách phổ  Chỉ bức xạ của nguyên tố phân tích được detector thu nhận.  Bộ đưa mẫu vào ICP-OES  Bộ phun sương (nebulizer)  Chuyển mẫu từ dạng lỏng  sương  các quá trình bay hơi dung môi, nóng chảy, hóa hơi, nguyên tử hóa, ion hóa, kích hoạt: lặp lại  Sự phun sương càng hiệu quả  kích thước hạt sương càng nhỏ, mật độ càng cao  nebulizer càng tốt.  Hai kiểu phun sương hiệu quả: phun khí (pneumatic) và siêu âm (ultrasonic)  Concentric nebulizer  Dùng cho AAS, ICP-OES  Mao quản càng nhỏ  độ nhạy, độ ổn định càng cao nhưng dễ tắc khi mẫu có lượng muối cao Meinhard concentric nebulizer  Tương hợp với mẫu có nồng độ muối cao (20%)  Dễ vỡ, dễ bị ăn mòn bởi HF (glass)  Tốc độ hút mẫu < 1-3 mL/min  Microconcentric nebulizer (MCN)  Mao quản nhỏ (polyimide hay Teflon)  hạt sương nhỏ  Thân bằng polyvinylidine difluoride  có thể dùng HF  Tốc độ hút mẫu < 0.1 mL/min  Cần thời gian rửa lâu (B, Hg)  Cross-flow nebulizer (pneumatic)  Hiệu suất tạo sương kém hơn MCN  kém nhạy hơn  Dung hợp mẫu nhiều muối tốt hơn MCN  Mao quản bằng saphire, đầu mao quản bằng rubby, thân nebulizer bằng polyetheretherketone (PEEK)  Babington nebulizer (pneumatic)  Tương hợp rất tốt với mẫu độ nhớt cao hay nhiều muối (1% RSD)  Ultrasonic nebulizer  Bộ rung siêu âm tạo sương  Hiệu suất tạo sương: 10-20% (10 lần pneumatic nebulizer)  độ nhạy cao  Cần làm lạnh nebulizer  giảm lượng dung môi vào ICP  Không thích hợp với mẫu có nhiều muối  Không tương hợp với HF  Bơm  Babington, ultrasonic nebulizer: cần bơm  Pneumatic nebulizer: hút mẫu do chênh lệch áp suất.  Dùng bơm: ổn định tốc độ hút mẫu  không chịu ảnh hưởng bởi độ nhớt, tỷ trọng, sức căng bề mặt  Giảm thời gian làm sạch nebulizer (wash out)  Bơm nhu động  Giảm nhiễm bẩn  Ống dẫn (tubing): bền vật lý, trơ hóa học  Buồng phun (spray chamber)  Đặt giữa nebulizer và torch  Loại bỏ những hạt sương > 10µm  Thường dùng: double pass và cyclonic  Hệ thống dẫn và chứa nước thải  Dẫn dung dịch mẫu dư khỏi buồng phun.  Tạo back-pressure cho hệ nebulizer- spray chamber  mẫu (sương) đến được plasma  Vật liệu chế tạo: chịu ăn mòn, dung môi hữu cơ.  Các kỹ thuật phun mẫu khác  Kỹ thuật tạo khí hydride  Hg, Sb, As, Bi, Ge, Pb, Se, Te, và Sn  Chất khử: NaBH4/NaOH  Tăng LOD: 1000 lần (tốc độ lấy mẫu 10 lần, hiệu suất lấy mẫu 100%)  Hóa hơi nhiệt bằng lò graphite  Sử dụng cho mẫu rắn, lỏng Thiết bị: thay nebulizer bằng lò graphite (AAS)  ICP ghi tín hiệu ở chế độ transient signal  Phun mẫu trực tiếp (Direct injection high efficiency nebulizer: DIHEN)  Không cần buồng phun Hiệu suất phun sương: 100%  Tốc độ phun mẫu: 1- 100µL/min  Mẫu sinh học (thể tích hạn chế)  Các thiết bị liên quan đến sự hình thành phổ phát xạ  Torch  gồm 3 ống thạch anh đồng tâm  one-piece torch: bị HF ăn mòn  thay nguyên bộ  demoutable torch Giá rẻ  Sử dụng injector khác nhau: ceramic (trơ), narrow-bore (dung môi hữu cơ), wide-bore (mẫu nhiều muối)  Nebulizer flow-inner gas flow <1L/min: dẫn mẫu  Auxiliary flow-intermediate gas flow (1-3L/min): tạo plasma  Plasma flow-outer gas flow (15L/min): làm nguội torch  Nguồn phát sóng radio (RF)  Cung cấp năng lượng để hình thành và duy trì plasma Ar  Công suất 700-1500W, tần số 27.12 hay 40.68 MHz  Cuộn Cu tải năng lượng vào plasma: 3 vòng quấn quanh torch.  Crystal-controlled generators: tần số dao động phụ thuộc vào sự đồng bộ hóa thông số các bộ phận trong mạch điện tử  Free-running generators: tần số dao động phụ thuộc vào sự đồng bộ hóa thông số các bộ phận của mạch điện tử và điều kiện thực tế plasma. Đơn giản, nhỏ gọn, rẻ  Thiết bị thu nhận tín hiệu phát xạ  Hệ quang học thu tia phát xạ Bức xạ phát ra từ vùng NAZ của plasma được hội tụ vào khe vào của bộ tách sóng qua 1 thấu kính lồi hay 1 gương cầu lõm Side-on viewing (radial viewing) End-on viewing (axial viewing) Dual view.  Thiết bị ICP cổ điển  Thiết bị tách sóng • Cách tử nhiễu xạ: > 1800 vạch/mm • Lăng kính, kính lọc thường, kính lọc giao thoa  Polychromator • Một khe vào, nhiều khe ra (48-64 khe) • Tại mỗi khe ra bố trí 1 detectors • Đo đồng thời (simultaneous) nhiều bước sóng (30 bước sóng). • Tiết kiệm thể tích mẫu, năng suất đo mẫu cao • Hiệu chỉnh nền không hiệu quả nếu bức xạ cản nhiễu không rơi vào 1 trong các khe ra.  Monochromator • Một khe vào, một khe ra, chỉ có 1 detector • Chỉ cho phép mỗi thời điểm đo một bước sóng • Cho phép đo lần lượt (sequential) nhiều nguyên tố: quét sóng (slewing). • Hiệu chỉnh nền hiệu quả • Tốn nhiều mẫu, năng suất đo mẫu thấp  Thang sóng hữu hiệu: 160 nm-450 nm Vùng 160 – 190 nm: oxy cản nhiễu  loại bỏ oxygen bằng nitơ  Detectors: ống nhân quang điện (photomutiple tube PMT): 1 photocathode, 9-16 dynode và 1 anode  Photon đập vào photocathode  è sơ cấp  1 è sơ cấp đập vào 1 dynod  2-5 è thứ cấp  1 photon  106 e thứ cấp.  È thứ cấp đập vào anode  dòng điện  Thiết bị ICP tiên tiến  Thiết bị tách sóng • Cách tử Echelle (350 vạch/mm): phân tách bức xạ đa sắc  đơn sắc nhiều bậc • Lăng kính tách các bậc  phổ 2 chiều • Độ phân giải rất cao (Δλ/λ > 110000) • Bậc nhiễu xạ càng cao, độ phân giải càng cao Detector: array detector • Photodiode array (PDA) • Charge injection devides (CID) • Charge coupled devides (CCD) • Segmented array charge coupled devides (SCD) • Dòng tối thấp khi làm lạnh • Ghi đồng thời nhiều bước sóng (mỗi bước sóng/1 pixel) 4. Xây dựng phương pháp trong ICP- OES  Chuẩn bị mẫu  Phun mẫu vào máy  Chuẩn hóa, hiệu chỉnh máy, tối ưu hóa thông số vận hành  Chọn vạch phổ  Cản nhiễu và cách hiệu chỉnh  Chọn nguyên tố phân tích  Tùy vào khả năng máy  Tùy vào yêu cầu phân tích  Chuẩn bị mẫu và chuẩn  Tùy vào đặc trưng lý hóa của mẫu Phương pháp phun mẫu vào máy  Thiết bị phun mẫu  Chương trình hóa quy trình đo Chọn các thông số chạy máy Chọn phương pháp ghi đo Chọn cách xử lý dữ liệu Kiểm tra cách setup máy (phần cứng và phần mềm: hệ thống khí, áp suất......)